1. <nav id="f0aph"></nav>
      2. クリーナー製品情報

         高精細化?高機能化するディスプレイ、半導體、電子部品マーケットに対し、各種製造プロセスで使用される薬液の開発?製造?販売を行っております。獨自の開発力を武器に他社にない優れた性能を有する製品ラインナップを有しており、エレクトロニクス産業全體の発展に貢獻しています。

        ディスプレイ用薬液 半導體用薬液 電子部品用洗浄剤

        ディスプレイ用薬液

         ディスプレイ用カラーフィルター向けの現像液をはじめ、基板ガラス洗浄剤、様々な金屬配線に対応したレジスト剝離液をランナップしています。

        商品名 種類 使用方法 特徴
        NK disperse HA CF現像液 希釈 一般的な無機アルカリベースのCF現像液
        NK disperse DX CF現像液 希釈 COAに対応した有機アルカリベースのCF現像液
        NK poleve 117 レジスト剝離液 希釈 Cu防食を有した有機アルカリ剝離液
        NK E-cleaner S TKA ガラス洗浄剤 希釈 有機アルカリベースのガラス洗浄剤

        ※上記一覧にない製品につきましても、直接お問い合わせください。

        橫スクロールできます)

        半導體用薬液

         高精細なフォトリソグラフィプロセスに対応した、各種現像液、剝離液をランナップしています。その他にも、WLPプロセスで用いられる厚膜ネガレジストやドライフィルムレジスト用剝離液、ドライエッチング殘渣除去液などもラインナップしております。各種法規制に対応した製品、NMP非含有製品など環境に配慮した薬液をご提案可能です。

        商品名 種類 法令 対応金屬 特徴
        毒劇物 危険物 Al Cu
        NK disperse UT シリーズ 現像液 毒物 金屬防食、微細加工など様々な特徴をもつ現像液シリーズ
        NK poleve 517 レジスト剝離液 汎用レジスト剝離液
        NK poleve 496 レジスト剝離液 変質したレジスト(Boshプロセス、TSVプロセスなど)にも対応した高性能剝離液

        ※上記一覧にない製品につきましても、直接お問い合わせください。

        橫スクロールできます)

        Cu対応
        ドライエッチング殘渣除去液の
        使用例

        サンプル構造

        サンプル構造

        処理前

        処理前

        →
        25℃/5min 浸漬後

        25℃/5min 浸漬後

        電子部品用洗浄剤

         電子部品のフラックス等の洗浄に用いられる各種洗浄剤をラインナップしています。フッ素、塩素などのハロゲン系溶剤を一切含有しない、地球環境に配慮した洗浄剤です。フラックスの洗浄並びに脫脂用洗浄など様々な用途に適した洗浄剤をご提案可能です。

        商品名 種類 法令 特徴
        危険物
        NK E-cleaner SO RF 汎用洗浄剤 第4類第2石 様々な用途の有機物汚れに対応した洗浄剤
        NK E-cleaner SO C175 フラックス洗浄剤 第4類第2石 フラックスへの高い溶解性を持つ洗浄剤

        ※上記一覧にない製品につきましても、直接お問い合わせください。

        橫スクロールできます)

        日本化薬株式會社
        機能性材料事業部

        ページ先頭へ 日本一本二本三本av网站